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不燃燒的無色、無味的壓縮氣體,充裝于鋼瓶中,壓力2000 psig。四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產,激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態,印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。由于它的化學穩定性,四氟化碳可用于金屬冶煉,例如:銅、不銹鋼,碳鋼、鋁、蒙乃爾等;還可用于塑料行業;如:合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。
四氟化碳
其他名稱:四氟甲烷、R14、tetrafluoromethane、carbon tetrafluoride
產品純度:99.99~99.999%
包裝說明: 47L DOT鋼瓶,鋼瓶尺寸23 × 130cm,316L SS材質閥門,閥門型號
注意事項:
不燃性壓縮氣體。儲存于陰涼、通風倉間內。倉內溫度不宜超過30℃。遠離火種、熱源。防止陽光直射。應與易燃或可燃物分開存放。驗收時要注意品名,注意驗瓶日期,先進倉的先發用。搬運時輕裝輕卸,防止鋼瓶及附件破損。泄漏時,應迅速撤離泄漏污染區人員至上風處,并進行隔離,嚴格限制出入。建議應急處理人員戴自給正壓式呼吸器,穿一般作業工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風,加速擴散。如有可能,即時使用。漏氣容器要妥善處理,修復、檢驗后再用。
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